Triclorossilano
Triclorossilano Alerta sobre risco à saúde | |
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Nome IUPAC | trichlorosilane |
Outros nomes | silyl trichloride, silicochloroform |
Identificadores | |
Número CAS | 10025-78-2 |
PubChem | 24811 |
Número EINECS | 233-042-5 |
ChemSpider | 23196 |
Número RTECS | VV5950000 |
SMILES |
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InChI | 1/Cl3HSi/c1-4(2)3/h4H |
Propriedades | |
Fórmula química | HCl3Si |
Massa molar | 135.45 g mol-1 |
Aparência | colourless liquid |
Densidade | 1,34 g·cm-3[1] |
Ponto de fusão | -134 °C[1] |
Ponto de ebulição | 32 °C[1] |
Solubilidade em água | decompõe-se violentamente na água[1] |
Pressão de vapor | 660 hPa (20 °C)[1] |
Riscos associados | |
MSDS | ICSC 0591 |
Classificação UE | Highly flammable (F+) Harmful (Xn) Corrosive (C) |
Índice UE | 014-001-00-9 |
NFPA 704 | 4 3 2 |
Frases R | R12, R14, R17, R20/22, R29, R35 |
Frases S | S2, S7/9 , S16, S26, S36/37/39, S43, S45 |
Ponto de fulgor | 7002246149999999999♠−27 °C |
Temperatura de auto-ignição | 7002458150000000000♠185 °C |
Limites de explosividade | 1.2–90.5% |
Compostos relacionados | |
Clorossilanos relacionados | Clorossilano Diclorossilano Diclorometilsilano Clorodimetilsilano Tetrafluoreto de silício |
Compostos relacionados | Trifluorossilano Tribromossilano Clorofórmio (triclorometano) |
Página de dados suplementares | |
Estrutura e propriedades | n, εr, etc. |
Dados termodinâmicos | Phase behaviour Solid, liquid, gas |
Dados espectrais | UV, IV, RMN, EM |
Exceto onde denotado, os dados referem-se a materiais sob condições normais de temperatura e pressão Referências e avisos gerais sobre esta caixa. Alerta sobre risco à saúde. |
Triclorossilano é o composto químico de fórmula SiHCl3.Em altas temperaturas decompõem-se produzindo silício, portanto, triclorossilano de alta pureza é usado como fonte de silício muito puro na indústria de semicondutores.Em água, se decompõem rapidamente, produzindo ácido clorídrico e silicone.Por causa de sua reatividade e disponibilidade, é frequentemente usado na síntese de compostos orgânicos contendo silício.
Síntese
Industrialmente, triclorossilano é produzido pelo borbulhamento de cloreto de hidrogênio em pó de silício a uma temperatura de 300Cº.
- Si + 3 HCl → HSiCl3 + H2
Um reator propriamente desenhado pode ter um rendimento de 80-90%.Os produtos secundários em maior número são tetracloreto de silício(SiCl4), hexaclorodissilano(Si2Cl6),e diclorossilano(SiH2Cl2), dentre os quais o triclorossilano pode ser separado por destilação.O processo reverso é usado na produção de silício de alta pureza.
Aplicações
Triclorossilano é o ingrediente básico na produção de silício policristalino.
Bibliografia
- Semiconductors: Silicon: Substrate Manufacture: Polycrystalline Silicon Production
Ligações externas
- Polysilicon Plant in India.